高精密半导体设备高新技术企业

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高精密半导体设备高新技术企业

矽万（上海）半导体科技有限公司

诚邀您莅临第十七届SDS及

2022中国国际防伪溯源技术展览会

展位号：B-136

与您相约
北京 国家会议中心

不见不散

矽万（上海）半导体科技有限公司是一家致力于设计、研发、生产、销售和服务高精密半导体设备的高新技术中外合资企业。我们专注于为客户提供PicoMaster无掩模激光直写光刻机，包括设备的安装调试、工艺改进、软件开发、以及可选配的涂胶显影清洗设备等。我们的产品和服务主要应用于全息防伪、半导体、微纳光学器件、掩模版制作、光学衍射器件、微流控芯片、MEMS器件等领域。高频光栅周期最小至500nm；最小线宽250nm；大幅面光刻至1000mmX1000mm。

公司注册于上海浦东国家自由贸易区，在上海设有技术服务中心，在荷兰设有生产研发中心，其母公司为注册在香港的Simax Asia Pacific Limited。我们已于2019年和2020年分别在深圳和武汉建立了演示中心; 上海演示中心已于2021年3月建成并投入使用。演示中心将在3D光刻软件开发、客户定制设计、客户工艺改进等方面发挥巨大作用。

我们以“品质创造价值，服务实现共赢”为经营理念。通过先进的技术，严格的质量管控，为客户提供完整的高品质解决方案。

产品介绍

产品一：PicoMaster XF 500-H

PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法，它们可以很轻松地将把这些效果组合起来，十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构，来定制数据库、完善产品设计。

√ 使用GLV （Grating Light Valve）技术实现高速并行直写

√ 直写速度：150平方毫米/分钟 @ 500nm精度

√ 可实现高达1000个单位像素的激光束并行直写

√ 支持最大 500mm x 500mm 激光直写面积

√ 选择关闭灰度写入功能，直写速度将提升2倍

√ 构建独立设计库，可完成最高自由度的3D光刻

√ 支持标准图像信息源、个性化3D设计源写入

√ 可定制更大幅面的无掩模激光直写系统解决方案

产品二：PicoMaster 200 

PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。

系统优点：

√ 支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；

√ 对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；

√ 最大支持9英寸基版，400毫米/秒扫描速度，200x200毫米曝光面积；

√ 采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；

√ 连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流；      

√ 运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，确保工作时的振动最小。

产品三：PicoMaster 100

PicoMaster 100采用波长405纳米二极管激光器，它拥有市场上最小的300纳米激光分辨率。升级375纳米激光源，可以更好地兼容市面上I-line光刻胶材，从而满足更高级别的应用需求。备用光学模块，将革命性的降低机器停机时间。更为人性化的软件设计，大大提升了用户实际操作效率，它将是您科学研究、实验开发、设计创新，理想的光学伙伴。

√ 使用405纳米（可升级375纳米）激光源在感光层上曝光，不需订购或制作掩模，图案可随用户设计而改变；

√ 不使用掩模版，只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦进行曝光，系统的标准作业方法就像点阵打印机一次一行；

√ 激光按设计写入线条进行的曝光，类似激光切割机或绘图仪工作模式，只有单点系统才能进行矢量书写。